Sistema de Litografia sem Máscara

Visão Geral: O uPG501 é um sistema de alinhamento sem máscara de alta precisão projetado para a prototipagem rápida e produção de baixo volume de dispositivos microeletrônicos e microfluídicos. Ele utiliza tecnologia de projeção direta para transferir padrões de design diretamente para a superfície do substrato, eliminando a necessidade de máscaras fotográficas. Especificações Técnicas: Fonte de Luz: Diodo laser UV de 355 nm Potência Óptica: Ajustável de 0 a 10 mW Resolução de Padrão: Até 1 µm Área de Projeção: 50 mm x 50 mm Precisão de Alinhamento: < 1 µm Velocidade de Projeção: Até 10 mm/s Suporte para Substratos: Vários materiais, incluindo silício, vidro, polímeros Compatibilidade com Software: GDSII, DXF, Gerber Dimensões do Equipamento: 600 mm x 600 mm x 1200 mm Peso do Equipamento: 150 kg Recursos Adicionais: Sistema de vácuo integrado: Garante um ambiente de trabalho limpo e livre de poeira. Sistema de resfriamento por ar: Mantém o equipamento em temperatura ideal para operação estável. Interface de usuário amigável: Facilita a operação do equipamento e a definição de parâmetros de projeção. Aplicações: Prototipagem rápida: Criação rápida de protótipos de dispositivos microeletrônicos e microfluídicos. Produção de baixo volume: Fabricação de dispositivos em pequenos lotes para pesquisa e desenvolvimento. Aplicações personalizadas: Fabricação de dispositivos personalizados para necessidades específicas. Vantagens: Elimina a necessidade de máscaras fotográficas: Reduz custos e simplifica o processo de fabricação. Alta flexibilidade: Permite a criação de uma ampla variedade de padrões de design. Alta precisão: Garante a produção de dispositivos com alta qualidade. Operação fácil: Interface amigável facilita o uso do equipamento. Desvantagens: Custo do equipamento: O uPG501 é um equipamento relativamente caro. Área de projeção limitada: A área de projeção de 50 mm x 50 mm pode ser limitante para alguns tipos de dispositivos. Velocidade de projeção: A velocidade de projeção pode ser lenta para aplicações de alto volume.